2024年5月10日，课题组通过在钙钛矿薄膜表面压印纳米光栅结构和组分工程等策略，获得了光谱响应范围在300 nm~1100 nm，峰值外量子效率、响应度、比探测率分别为87.7%、0.47A/W和8.3×10¹³ Jones，响应时间为377 ns/860 ns的单像素钙钛矿红外探测器和5×5的探测器阵列，并实现了与TFT芯片的集成化成像应用。

图1. 钙钛矿红外探测与成像芯片的性能。(a) 外量子效率；(b) 响应度；(c) 比探测率；(d) 调制光信号；(e) 多周期I-t；(f) 响应时间；(g) 钙钛矿探测器阵列(5×5) 成像“S”（850 nm）；（h-i）钙钛矿与TFT芯片的集成化成像应用。